Metrology method and system and lithographic system

WO2022156978 Art A1 28. Juli 2022

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022156978
Aktenzeichen: EP21843685
Anmeldetag: 20. Dezember 2021
Veröffentlichung: 28. Juli 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G06N20/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

Vertreten von