Systems and methods for measuring intensity in a lithographic alignment apparatus

WO2022157009 Art A1 28. Juli 2022

Anmelder: ASML HOLDING N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022157009
Aktenzeichen: EP22700060
Anmeldetag: 4. Januar 2022
Veröffentlichung: 28. Juli 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML HOLDING N.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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