Plating device and method for measuring thickness of film on substrate
WO2022157852
Art A1
28. Juli 2022
Anmelder: EBARA CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022157852
- Aktenzeichen
- EP21920966
- Anmeldetag
- 20. Januar 2021
- Veröffentlichung
- 28. Juli 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C25D17/06C25D17/08C25D21/12G01B7/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- EBARA CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Ebara
Japanischer Hersteller von Pumpen, Kompressoren und Umwelttechnik mit Sitz in Tokio, gegründet 1912.
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