Resist pattern inspection method, resist pattern manufacturing method, substrate selection method, and printed circuit board manufacturing method

WO2022157895 Art A1 28. Juli 2022

Anmelder: RESONAC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022157895
Aktenzeichen: EP21921007
Anmeldetag: 21. Januar 2021
Veröffentlichung: 28. Juli 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/956

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: RESONAC CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Resonac

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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