Ag alloy film, and ag alloy sputtering target

WO2022158231 Art A1 28. Juli 2022

Anmelder: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022158231
Aktenzeichen: EP21921332
Anmeldetag: 22. Dezember 2021
Veröffentlichung: 28. Juli 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/14C22C5/06C22F1/00C22F1/14C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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