Methods of forming a microelectronic device, and related systems and additional methods

WO2022159195 Art A1 28. Juli 2022

Anmelder: MICRON TECHNOLOGY, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022159195
Aktenzeichen: EP21921611
Anmeldetag: 9. Dezember 2021
Veröffentlichung: 28. Juli 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/34C23C16/455C01B21/068

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MICRON TECHNOLOGY, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von