Calibration sample, manufacturing method for calibration sample, and calibration method for autofocus target position

WO2022162791 Art A1 4. August 2022

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022162791
Aktenzeichen: EP21922815
Anmeldetag: 27. Januar 2021
Veröffentlichung: 4. August 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G02B21/34G02B7/28

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von