Apparatus for manufacturing semiconductor device and method for cleaning substrate
WO2022162838
Art A1
4. August 2022
Anmelder: SHINKAWA LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022162838
- Aktenzeichen
- EP21921673
- Anmeldetag
- 28. Januar 2021
- Veröffentlichung
- 4. August 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304H01L21/50H01L21/52
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHINKAWA LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shinkawa
Shinkawa ist ein japanischer Hersteller von Bondanlagen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Musashimurayama. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Elektronik, ergänzt um Mess- und Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen betreffen überwiegend Montagevorrichtungen und zugehörige Steuerprogramme.
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