Single crystal pulling device and single crystal pulling method

WO2022163091 Art A1 4. August 2022

Anmelder: SHIN-ETSU HANDOTAI CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022163091
Aktenzeichen: EP21923096
Anmeldetag: 22. November 2021
Veröffentlichung: 4. August 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C30B15/20C30B29/06C30B30/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHIN-ETSU HANDOTAI CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

1.180 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von

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