Film-forming material, film-forming slurry, spray coated film, and spray coated member

WO2022163234 Art A1 4. August 2022

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022163234
Aktenzeichen: EP21923237
Anmeldetag: 22. Dezember 2021
Veröffentlichung: 4. August 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C23C4/04C01F17/20C01F17/212C01F17/218C01F17/224C01F17/265

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von