Plasma processing device, high-frequency power supply circuit, and impedance matching method

WO2022163461 Art A1 4. August 2022

Anmelder: KYUSHU UNIVERSITY, NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION, TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022163461
Aktenzeichen: EP22745682
Anmeldetag: 19. Januar 2022
Veröffentlichung: 4. August 2022
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46H03H7/38H03H11/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: KYUSHU UNIVERSITY, NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION
TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Kyushu University

Kyushu University ist eine staatliche Universität in Fukuoka, Japan, mit Forschungsschwerpunkten in Natur- und Ingenieurwissenschaften.

1.331 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.254 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

Vertreten von