Apparatus for measuring thickness and shape of thin film by using interference and wavenumber high-frequency modulation, and method for measuring thickness and shape of thin film using same

WO2022163969 Art A1 4. August 2022

Anmelder: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022163969
Aktenzeichen: EP21923378
Anmeldetag: 25. Oktober 2021
Veröffentlichung: 4. August 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G01B11/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Seoul National University R&DB Foundation

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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