Gas supply apparatus for substrate processing apparatus
WO2022164082
Art A1
4. August 2022
Anmelder: JUSUNG ENGINEERING CO., LTD. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022164082
- Aktenzeichen
- EP22746111
- Anmeldetag
- 12. Januar 2022
- Veröffentlichung
- 4. August 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/67
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Jusung Engineering
Jusung Engineering ist ein südkoreanischer Hersteller von Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleitertechnik, ergänzt durch Metallurgie und Elektronik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2025 ab.
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