Spatially and dimensionally non-uniform channelled plate for tailored hydrodynamics during electroplating

WO2022164695 Art A1 4. August 2022

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022164695
Aktenzeichen: EP22746409
Anmeldetag: 19. Januar 2022
Veröffentlichung: 4. August 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C25D17/00C25D5/08C25D5/02H01L21/288

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von