Mask absorber layers for extreme ultraviolet lithography

WO2022164760 Art A1 4. August 2022

Anmelder: THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF CALIFORNIA 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022164760
Aktenzeichen: EP22746449
Anmeldetag: 24. Januar 2022
Veröffentlichung: 4. August 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03B27/72

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF CALIFORNIA
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 University of California

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von