Apparatus, methods, and systems of using hydrogen radicals for thermal annealing

WO2022169561 Art A1 11. August 2022

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022169561
Aktenzeichen: EP22750151
Anmeldetag: 11. Januar 2022
Veröffentlichung: 11. August 2022
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3105H01L21/321H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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