Removal of stray ruthenium metal nuclei for selective ruthenium metal layer formation

WO2022169567 Art A1 11. August 2022

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, TOKYO ELECTRON U.S. HOLDINGS, INC., THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF COLORADO, A BODY 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022169567
Aktenzeichen: EP22750154
Anmeldetag: 12. Januar 2022
Veröffentlichung: 11. August 2022
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/768H01L21/285C23C16/04C23C16/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
TOKYO ELECTRON U.S. HOLDINGS, INC.
THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF COLORADO, A BODY
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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🇺🇸 The Regents of the University of Colorado, a Body Corporate

The Regents of the University of Colorado, A Body Corporate ist die Trägerkörperschaft der University of Colorado in den USA. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und Gesundheit sowie Pharma und organische Chemie, ergänzt durch Halbleiter- und Werkstofftechnik. Anmeldungen sind von 2001 bis in die Gegenwart belegt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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