Contour line analysis device, processing condition determination system, shape inference system, semiconductor device manufacturing system, search device, and data structures to be used for same

WO2022172353 Art A1 18. August 2022

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022172353
Aktenzeichen: EP21925606
Anmeldetag: 10. Februar 2021
Veröffentlichung: 18. August 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G01B15/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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