Film thickness measuring device and film thickness measuring method
WO2022172532
Art A1
18. August 2022
Anmelder: HAMAMATSU PHOTONICS K.K. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022172532
- Aktenzeichen
- EP21925777
- Anmeldetag
- 4. November 2021
- Veröffentlichung
- 18. August 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01B11/06H01L21/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HAMAMATSU PHOTONICS K.K.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hamamatsu Photonics
Japanisches Unternehmen für Photonik mit Sitz in Hamamatsu, spezialisiert auf Photodetektoren, Bildsensoren, Laser und optische Messtechnik für Wissenschaft und Industrie.
2.892 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.