Radiation-sensitive resin composition and method for forming resist patter using same, and sulfonium salt compound and radiation-sensitive acid generator comprising same

WO2022172685 Art A1 18. August 2022

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022172685
Aktenzeichen: EP22752518
Anmeldetag: 14. Januar 2022
Veröffentlichung: 18. August 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C07C309/12C07C309/19C07C381/12C07D317/70C07D317/72C07D321/06C07D327/06C07D333/46C07D335/02C08F20/10C07D493/10G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20C07D307/00

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Abstract

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Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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