Methods and systems for accurate measurement of deep structures having distorted geometry

WO2022173634 Art A1 18. August 2022

Anmelder: KLA CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022173634
Aktenzeichen: EP22753150
Anmeldetag: 2. Februar 2022
Veröffentlichung: 18. August 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G01N23/02G01N23/20H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: KLA CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 KLA Corporation

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

1.908 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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