Reflective mask blank for euv lithography, reflective mask for euv lithography, and method for manufacturing same
WO2022176749
Art A1
25. August 2022
Anmelder: AGC INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022176749
- Aktenzeichen
- EP22756069
- Anmeldetag
- 9. Februar 2022
- Veröffentlichung
- 25. August 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F1/24G03F1/32G03F1/54
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- AGC INC.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
AGC (Asahi Glass)
Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.
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