Sorbent for removing radon, production method for same, and radon removal method using same

WO2022177079 Art A1 25. August 2022

Anmelder: POSTECH RESEARCH AND BUSINESS DEVELOPMENT FOUNDATI 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022177079
Aktenzeichen: EP21926878
Anmeldetag: 5. August 2021
Veröffentlichung: 25. August 2022
Rechtsraum: WO
IPC: B01J20/18B01J20/02B01J20/30C02F1/28C02F101/00C02F103/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: POSTECH RESEARCH AND BUSINESS DEVELOPMENT FOUNDATI
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Postech Research and Business Development Foundation

Die POSTECH Research and Business Development Foundation verwaltet die Patentverwertung der südkoreanischen Universität POSTECH (Pohang University of Science and Technology). Das Portfolio verteilt sich breit über Halbleitertechnik, Medizintechnik, Pharma/Biotechnologie und Software. Die Anmeldungen decken den Zeitraum 2019 bis 2025 ab.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Verfahrens- & Trenntechnik

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