Method for producing semiconductor device, method for producing film material for provisional fixation, and film material for provisional fixation
WO2022181636
Art A1
1. September 2022
Anmelder: RESONAC CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022181636
- Aktenzeichen
- EP22759671
- Anmeldetag
- 22. Februar 2022
- Veröffentlichung
- 1. September 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B32B25/04H01L21/02H01L21/304H01L21/60H01L21/301H01L21/3205H01L21/768H01L23/522
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- RESONAC CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Resonac
Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.
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