Reactor for chemical vapor deposition method-based coated glass

WO2022183738 Art A1 9. September 2022

Anmelder: ZHEJIANG UNIVERSITY 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022183738
Aktenzeichen: EP21928812
Anmeldetag: 14. Oktober 2021
Veröffentlichung: 9. September 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C03C17/245C03C17/00C23C16/455

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ZHEJIANG UNIVERSITY
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Zhejiang University

Chinesische Universität mit Sitz in Hangzhou, eine der führenden Forschungshochschulen Chinas mit breitem Fächerspektrum einschließlich Ingenieurwissenschaften und Materialforschung.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

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