Substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2022186004 Art A1 9. September 2022

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022186004
Aktenzeichen: EP22763060
Anmeldetag: 22. Februar 2022
Veröffentlichung: 9. September 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24G03F1/48C23C14/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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