Radiation-sensitive resin composition, pattern formation method, polymer, and compound

WO2022186048 Art A1 9. September 2022

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022186048
Aktenzeichen: EP22763104
Anmeldetag: 24. Februar 2022
Veröffentlichung: 9. September 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C07D317/24C07D317/72C08F20/26C07D493/10G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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