Film-forming material for lithography, composition, underlayer film for lithography, and method for forming pattern

WO2022186254 Art A1 9. September 2022

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022186254
Aktenzeichen: EP22763308
Anmeldetag: 2. März 2022
Veröffentlichung: 9. September 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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