Measuring apparatus and method for roughness and/or defect measurement on a surface
WO2022189250
Art A1
15. September 2022
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022189250
- Aktenzeichen
- EP22710554
- Anmeldetag
- 3. März 2022
- Veröffentlichung
- 15. September 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01B11/30H01L21/67H01L21/68H01L21/683G01N21/47G01N21/88
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML NETHERLANDS B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.