Defect inspection device, defect inspection method, and adjustment substrate

WO2022190210 Art A1 15. September 2022

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022190210
Aktenzeichen: EP21930067
Anmeldetag: 9. März 2021
Veröffentlichung: 15. September 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/93G01N21/956

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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