Radiation-sensitive resin composition and pattern formation method

WO2022190599 Art A1 15. September 2022

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022190599
Aktenzeichen: EP22766567
Anmeldetag: 5. Januar 2022
Veröffentlichung: 15. September 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C07C59/115C07C61/29C07C381/12C07J9/00C08F220/28C09K3/00G03F7/004G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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