Chemical vapor deposition starting material containing organic ruthenium compound, and chemical vapor deposition method for ruthenium thin film or ruthenium compound thin film

WO2022190844 Art A1 15. September 2022

Anmelder: TANAKA KIKINZOKU KOGYO K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022190844
Aktenzeichen: EP22766807
Anmeldetag: 22. Februar 2022
Veröffentlichung: 15. September 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/18C07C49/12C07F15/00H01L21/285

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TANAKA KIKINZOKU KOGYO K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tanaka Kikinzoku Kogyo

Tanaka Kikinzoku Kogyo ist ein japanisches Unternehmen für Edelmetallverarbeitung mit Sitz in Tokio. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt um Fertigungs- und Verfahrenstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2023 ab.

430 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Organische Chemie

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