Method for producing semiconductor substrate, composition, polymer and method for producing polymer

WO2022191062 Art A1 15. September 2022

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022191062
Aktenzeichen: EP22767020
Anmeldetag: 4. März 2022
Veröffentlichung: 15. September 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C08G8/04C08G12/26G03F7/11G03F7/20G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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