Mask plate, alignment mark and photolithography system

WO2022193151 Art A1 22. September 2022

Anmelder: SEMICONDUCTOR MANUFACTURING INTERNATIONAL (SHANGHA, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING INTERNATIONAL (BEIJING 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022193151
Aktenzeichen: EP21930747
Anmeldetag: 16. März 2021
Veröffentlichung: 22. September 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00G03F7/20G03B27/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: SEMICONDUCTOR MANUFACTURING INTERNATIONAL (SHANGHA
SEMICONDUCTOR MANUFACTURING INTERNATIONAL (BEIJING
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Semiconductor Manufacturing International (Beijing)

Semiconductor Manufacturing International (Beijing) ist die Pekinger Fertigungstochter des chinesischen Chip-Auftragsfertigers SMIC. Das Patentportfolio dreht sich fast vollständig um Halbleiter- und elektrische Bauelemente, mit kleineren Anteilen in Datenspeicherung und Optik. Die Anmeldungen stammen überwiegend aus den Jahren 2016 bis 2021.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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