Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Dotierten Monokristallinen Stabes aus Silicium
WO2022194586
Art A1
22. September 2022
Anmelder: SILTRONIC AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022194586
- Aktenzeichen
- EP22710592
- Anmeldetag
- 7. März 2022
- Veröffentlichung
- 22. September 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C30B15/04C30B29/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SILTRONIC AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Siltronic
Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.
375 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.