Radiation-sensitive resin composition, method for forming resist pattern, polymer, and compound

WO2022196024 Art A1 22. September 2022

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022196024
Aktenzeichen: EP21931766
Anmeldetag: 24. Dezember 2021
Veröffentlichung: 22. September 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C08F20/40G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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