Gas supply apparatus and semiconductor manufacturing apparatus

WO2022196386 Art A1 22. September 2022

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, FUJIKIN INCORPORATED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022196386
Aktenzeichen: EP22771140
Anmeldetag: 4. März 2022
Veröffentlichung: 22. September 2022
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
FUJIKIN INCORPORATED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.253 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Fujikin

Der Anmelder ist ein japanischer Hersteller von Fluidsteuerungs- und Ventiltechnik für die Halbleiterfertigung. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Maschinenelemente und Fluidtechnik sowie auf Steuerungs- und Regelungstechnik und Messtechnik. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

452 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von