Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterschichtenfolge und Halbleiterschichtenfolge

WO2022200058 Art A1 29. September 2022

Anmelder: AMS-OSRAM INTERNATIONAL GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2022200058
Aktenzeichen
EP22713904
Anmeldetag
10. März 2022
Veröffentlichung
29. September 2022
Rechtsraum
WO
IPC
H01L33/32H01L21/02H01L33/22
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
AMS-OSRAM INTERNATIONAL GMBH
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 ams OSRAM

ams OSRAM International GmbH ist ein deutsch-österreichischer Hersteller von Sensoren und optoelektronischen Bauteilen, entstanden aus dem Zusammenschluss von ams und Osram.

1.365 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen