Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterschichtenfolge und Halbleiterschichtenfolge
WO2022200058
Art A1
29. September 2022
Anmelder: AMS-OSRAM INTERNATIONAL GMBH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022200058
- Aktenzeichen
- EP22713904
- Anmeldetag
- 10. März 2022
- Veröffentlichung
- 29. September 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L33/32H01L21/02H01L33/22
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- AMS-OSRAM INTERNATIONAL GMBH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
ams OSRAM
ams OSRAM International GmbH ist ein deutsch-österreichischer Hersteller von Sensoren und optoelektronischen Bauteilen, entstanden aus dem Zusammenschluss von ams und Osram.
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