A process for electrochemical deposition of copper with different current densities

WO2022200548 Art A1 29. September 2022

Anmelder: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH&CO. KG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022200548
Aktenzeichen: EP22717807
Anmeldetag: 25. März 2022
Veröffentlichung: 29. September 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C23C18/16C23C18/38C23C18/40C23F1/18C25D5/18C25D5/00C25D7/06H05K3/18C25D3/38H05K3/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH&CO. KG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Atotech Deutschland

Atotech Deutschland ist ein deutscher Anbieter von Oberflächenveredelungschemie, unter anderem für die Elektronik- und Halbleiterindustrie, und gehört zum US-Konzern MKS Instruments. Das Patentportfolio konzentriert sich deutlich auf Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt durch Elektronik und Halbleitertechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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