Plasma treatment device and plasma treatment method

WO2022201351 Art A1 29. September 2022

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022201351
Aktenzeichen: EP21932961
Anmeldetag: 24. März 2021
Veröffentlichung: 29. September 2022
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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