Actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive film, method for forming pattern, and method for producing electronic device

WO2022202345 Art A1 29. September 2022

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022202345
Aktenzeichen: EP22775137
Anmeldetag: 9. März 2022
Veröffentlichung: 29. September 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C07C309/12C07C311/09C07C317/14C07D211/96C07D327/06C07D333/76C08F212/14C08F220/20C08F220/26C08F220/38G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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