Method for preparing silicone/graphene thermal interface material

WO2022205079 Art A1 6. Oktober 2022

Anmelder: Shenzhen Institute of Advanced Technology Chinese Academy of Sciences 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022205079
Aktenzeichen: EP21933754
Anmeldetag: 31. März 2021
Veröffentlichung: 6. Oktober 2022
Rechtsraum: WO
IPC: B32B37/12B32B38/00B32B9/00B32B9/04B32B7/12H01L23/373

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shenzhen Institute of Advanced Technology Chinese Academy of Sciences
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Shenzhen Institute of Advanced Technology Chinese Academy of Sciences

Das Shenzhen Institute of Advanced Technology ist ein Forschungsinstitut der Chinesischen Akademie der Wissenschaften mit Sitz in Shenzhen. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Software und Medizintechnik, ergänzt um Mess-, Pharma- und Fertigungstechnik sowie Telekommunikation. Die Anmeldungen decken ein breites Spektrum von medizinischer Ernährung bis zu drahtloser Kommunikationstechnik ab.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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