Polishing composition, polishing method, and method for producing semiconductor substrate
WO2022209150
Art A1
6. Oktober 2022
Anmelder: FUJIMI INCORPORATED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022209150
- Aktenzeichen
- EP22779382
- Anmeldetag
- 17. Januar 2022
- Veröffentlichung
- 6. Oktober 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C09K3/14B24B37/00H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIMI INCORPORATED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujimi
Fujimi ist ein japanischer Hersteller von Poliermitteln, vor allem für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben und Klebstoffe sowie Halbleiterbauelemente und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.
511 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.