Liquid metal precursor solution, metal film manufacturing method using same, and electronic device comprising same

WO2022211218 Art A1 6. Oktober 2022

Anmelder: KOREA ADVANCED INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022211218
Aktenzeichen: EP21935331
Anmeldetag: 15. Dezember 2021
Veröffentlichung: 6. Oktober 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C23C26/00C23C18/08H01B1/02H01L51/00H01B5/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: KOREA ADVANCED INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 KAIST

Südkoreanische technische Universität und Forschungsinstitution mit Fokus auf Ingenieurwissenschaften, Naturwissenschaften und Technologieentwicklung, unter anderem in Robotik und Elektronik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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