Mirror for performing metrology in a laser beam system, laser beam system, euv radiation source and lithographic apparatus

WO2022214288 Art A1 13. Oktober 2022

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022214288
Aktenzeichen: EP22711566
Anmeldetag: 16. März 2022
Veröffentlichung: 13. Oktober 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01J1/42G02B5/08H01S3/00H05G2/00H01S3/223

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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