Photoresist resin, photoresist, and cured product

WO2022215456 Art A1 13. Oktober 2022

Anmelder: NOF CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022215456
Aktenzeichen: EP22784441
Anmeldetag: 15. März 2022
Veröffentlichung: 13. Oktober 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C08F290/06C08F220/04C08F220/28G03F7/027G03F7/033G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NOF CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 NOF

NOF Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen mit Schwerpunkt Öl- und Fettchemie sowie Lipiden für pharmazeutische Anwendungen. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Kunststoff- und Polymertechnik sowie Medizintechnik, ergänzt um Farben und organische Chemie. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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