Gas pipeline cleaning mechanism for chemical vapor deposition system

WO2022217498 Art A1 20. Oktober 2022

Anmelder: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. 🇹🇼

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022217498
Aktenzeichen: EP21936390
Anmeldetag: 14. April 2021
Veröffentlichung: 20. Oktober 2022
Rechtsraum: WO
IPC: B08B9/032B08B13/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.
Land: 🇹🇼 Taiwan

🇹🇼 Taiwan Semiconductor Manufacturing

Taiwan Semiconductor Manufacturing (TSMC) ist der weltweit größte reine Halbleiter-Auftragsfertiger mit Sitz in Hsinchu, Taiwan. Der weit überwiegende Teil des Patentportfolios betrifft Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt um Datenspeicherung und Nachrichtentechnik. Anmeldungen laufen durchgehend von 2000 bis 2022.

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Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

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