Defect inspection device

WO2022219667 Art A1 20. Oktober 2022

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022219667
Aktenzeichen: EP21936871
Anmeldetag: 12. April 2021
Veröffentlichung: 20. Oktober 2022
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/28G01N23/203G01N23/2251

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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