Active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for producing electronic device

WO2022220189 Art A1 20. Oktober 2022

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022220189
Aktenzeichen: EP22788114
Anmeldetag: 7. April 2022
Veröffentlichung: 20. Oktober 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C08F212/14C08F220/30G03F7/004G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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