Control Of Dissolved Gas Concentration in Electroplating Baths

WO2022221498 Art A1 20. Oktober 2022

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022221498
Aktenzeichen: EP22788914
Anmeldetag: 14. April 2022
Veröffentlichung: 20. Oktober 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C25D21/04C25D21/12C25D21/10C25D17/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von